Cavalliera - Turnierjacket ACTIVE - SECOND SKIN TECHNOLOGY
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Damen Turnierjacket ACTIVE - SECOND-SKIN-TECHNOLOGY - Softshell, Funktions-Turnierbekleidung, Reitbekleidung

251-102110
82.990 Ft
Bruttopreis
  • Second-Skin-Technologie: Bietet Flexibilität und Bewegungsfreiheit
  • Leistungssteigernde Merkmale: Die Jacke folgt jeder Bewegung des Reiters
  • 4-Wege-Stretchmaterial
  • Ideal für Wettbewerbe: Perfekt für Reiter, die sportlichen Stil mit eleganter Funktionalität verbinden möchten
  • Vielseitig für alle Disziplinen: Geeignet für verschiedene Reitsportdisziplinen und somit ein Must-have für Reiter
Cavalliera - Turnierjacket ACTIVE - SECOND SKIN TECHNOLOGY

Damen

82.990 Ft
Bruttopreis
Größe :
Farbe :
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Verfügbar

Diese taillierte Jacke ist nicht nur aufgrund ihrer sportlichen, aber dennoch femininen Form beliebt, sondern ermöglicht es Ihnen auch, sich mit der Flexibilität und Bewegungsfreiheit zu bewegen, als ob Sie eine zweite Haut beim Reiten tragen würden, da diese Damen-Showjacke mit der Second Skin-Technologie hergestellt wurde. Ob beim höchsten Sprung oder extremen Bewegungen, die Wettkampfjacke folgt den Bewegungen der Reiterin dank des 4-Wege-Stretchmaterials und des einzigartigen Schnitts. Wenn sportlicher Stil und Funktionalität zu Ihren wichtigsten Prioritäten gehören und Sie dennoch ein einfaches Design bevorzugen, das in seiner Form deutlich feminin ist, dann ist diese Jacke genau das Richtige für Sie.

Stoff und Pflege
Polyester 89%, Spandex 11%
CAVALLIERA Meisterwerke werden aus hochwertigen Materialien gefertigt und mit größter Sorgfalt von Hand hergestellt, was ihre Haltbarkeit und Schönheit gewährleistet. Wir bitten Sie, Ihre Reitbekleidung mit derselben Liebe zu behandeln; reinigen und pflegen Sie sie sorgfältig in Bezug auf Waschen und Bügeln.

Pflegehinweise für Reitjacken: Sie können im Kalt- und Schonwaschgang in der Waschmaschine gewaschen werden. Verwenden Sie beim ersten Waschgang unbedingt ein Farbfangtuch. Nicht im Trockner trocknen. Nicht ausspülen. Zum Trocknen aufhängen oder flach liegend trocknen lassen.

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